真空沉積爐是用于制備碳碳復(fù)合材料，沉積爐主要用于石墨、半導(dǎo)體器件、耐熱沖刷材料的表面熱解炭涂層制備。

基本參數(shù):

  1)設(shè)計(jì)溫度：1250℃/1650℃/1800℃/2200℃

  2)常用溫度：900~1200℃

  3)真空度：＜50Pa

  4)壓升率：空爐冷態(tài)6.67Pa/h(或150Pa/24h)

  5)加熱方式：石墨電阻加熱或感應(yīng)加熱,獨(dú)立控溫，溫度均勻性好

  6)氣氛介質(zhì)：真空/CH₄/C₃H₆/H₂/N₂/Ar

  7)控氣方式：質(zhì)量流量計(jì)控制,多通道工氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；

  8)多級(jí)高效尾氣處理系統(tǒng)，環(huán)境友好，易清理；

  9)爐型：方形、圓形、立式或臥式結(jié)構(gòu)（非標(biāo)設(shè)計(jì)）,全封閉沉積室，密封效果好，抗污染能力強(qiáng)；

  10)爐體冷卻方式：爐殼水冷，可選配外循環(huán)快冷系統(tǒng)，降溫時(shí)間短，生產(chǎn)效率高；

爐體結(jié)構(gòu)：

  結(jié)構(gòu)形式：臥式-側(cè)出料,立式-上出料/下出料

  爐門鎖緊方式：手動(dòng)/自動(dòng)

  爐殼材質(zhì)：內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼

  保溫材質(zhì)：碳?xì)?/span>/石墨氈/碳纖維固化氈

  加熱器、馬弗材質(zhì)：石墨/CFC

  紅外儀：單比色/雙比色

  電源：KGPS/IGBT(僅適用于中頻加熱)